超薄石英晶片双面抛光一致性工艺及理论研究

发表时间：2024-09-21 17:10

技术需求：

针对超薄石英晶片双面抛光中面临的加工质量一致性和良率差问题，企业急需解决一下：一、急需晶片抛光研磨工艺技术二、抛光专用设备、工装

企业名称：唐山万士和电子有限公司

意向合作方式：委托研发合作研发

咨询热线：15531302084

首页新闻资讯供需对接质押融资知产服务企业服务联系我们

联系QQ：985789885 手机号码：15531302084 联系邮箱：985789885@qq.com

联系我们： 15531302084